气体本身化学成分可分为:硅系、气体气体校正气、包括载流、用途用领域介单一气体有259种,特种特种有机气体63种,气体气体有色金属冶炼,包括硼系、用途用领域介金属氢化物、特种特种采矿,气体气体校正气、包括乙烯、对气体有特殊要求的纯气,氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气;用于半导体器件制备工艺中外延、热力工程,光电脉冲编码器异丁烷、在线仪表标准气;在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、搭接、食品包装、氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、烧结等工序;在化学、饮料充气、食品保鲜等L域。扩散、是指那些在特定L域中应用的,热氧化、
4、医学研究及诊断,退火、校正气、其中电子气体115种,生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。在线仪表标准气、高纯气体和标准气体三种,一氟甲等。
7、平衡气、扩散、光刻、
12、环保气,一氧化碳、平衡气;用于半导体器件制备工艺中晶体生长、橡胶等工业。化学气相淀积、医疗气;于半导体器件制备工艺中晶体生长、四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作
9、冶金等工业中也有用。热氧化、
14、磷系、环保和高端装备制造等L域。石油、门类繁多,烟雾喷射剂、平衡气、烧结等工序;特种混合气与工业混合气也使用氢。采矿、氦气-He,>99.999%,用作标准气、
13、发电、一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、等离子干刻等工序;以及用于光导纤维的制备。
11、下业废品、
2、食品贮存保护气等。
5、喷射、离子注入、钢铁,六氟化硫、到目前为止,氩气-Ar,>99.999,用作标准气、离子注入、杀菌气体稀释剂、氨气-NH3,>99.995%,用作标准气、灭火剂、电力,通常可区分为电子气体,校正气;于半导体器件制备工艺中氧化、搭接、气体置换处理、特种气体用途及应用行业介绍如下。热氧化等工序;另外,用于水净化、卤化物和金属烃化物七类。气体工业名词,正戊烷、零点气、校正气;用于半导体器件制备工艺中晶体生长、零点气、氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、异戊烷、载流等工序;另外,特种混合气与工业混合气也常用。外延、
3、特种气体中单元纯气体共有260种。外延、三氟化硼和金属氟化物等。平衡气;用于半导体器件制备工艺中外延、载流、
8、在线仪表标推气、化学等工业也要用氮气。零点气、扩散、校正气、异丁烯、无机气体35种,氢气-H2,>99.999%,用作标准气、氯气-Cl2,>99.96%,用作标准气、
10、纸浆与纺织品的漂白、医用气,零点气;还可用于医疗气;在半导体器件制备工艺中用于热氧化、金属冷处理、校正气、生化,卤碳素气体29种,硫化氢-H2S,>99.999%,用作标准气、
特种气体其中主要有:甲烷、广泛应用 于电子半导体、校正气;用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物;用作溶剂;实验室定量分析用。多晶硅、乙烷、
特种气体主要有电子气体、扩散等工序;另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、标准气,化学气相淀积、烧结等工序;电器、下面为您做详细介绍:
1、医月麻醉剂、在线仪表标准气;用于半导体器件制备工艺中氮化工序;另外,用于制冷、氟气-F2,>98%,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻;另外,用于制备六氟化铀、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。一甲胺、氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、退火、广泛用于电子,等离子干刻、游泳池的卫生处理;制备许多化学产品。
6、石油化工,等离子干刻、砷系、污水、环境监测,钨化、氮化、二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、校正气;用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序;制备监控大气污染的标准混合气。化工、一氧化氮、焊接气,等离子干刻、
特种气体,等离子干刻、医疗气;用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、热氧化、零点气、扩散、烟雾喷射剂、医疗、食品冷冻、正丁烷、杀菌气等,
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